Belichtung von lichtempfindlichem Material

Lithographie

Belichtung von lichtempfindlichem Material

Die Photolithographie – oder UV-Litographie (UVL) – beschreibt in der Mikrofertigung das Übertragen eines geometrischen Musters von einer Photomaske auf ein lichtempfindliches chemisches Photoresist (Substrat) auf Basis von Photonenabsorption. So durchlaufen etwa komplexe integrierte Schaltkreise oder CMOS-Wafer mehrere photolithographische Zyklen. Die Laserlithographie, eine Anwendung der Mehrphotonen-Absorption, ermöglicht die örtlich begrenzte, aber hochauflösende Belichtung von lichtempfindlichem Material. Die belichteten Bereiche weisen im Gegensatz zu ihrer Umgebung eine andere chemische Löslichkeit auf und erlauben zudem die Erzeugung extrem komplexer 3D-Strukturen, deren Strukturen im Submikrometerbereich liegen. Laserlithographie gilt in vielen Bereichen als Schlüsseltechnologie. Dazu gehören die Nano- und Mikroelektronik, Fluidik sowie die Biotechnologie. Zum Einsatz kommen zumeist kurze Laserpulse im (sub-) Nanosekundenbereich.

Andere Techniken wie die Laserinterferenzlithografie (LIL), die Nano-Imprint-Lithografie (NIL) und die Stereolithografie (SLA) sind Verfahren zur Strukturierung regelmäßiger Anordnungen feiner Details und zum 3D-Prototyping für medizinische und biotechnologische Anwendungen ohne Verwendung komplexer optischer Fotomasken.

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2023-01-19T16:38:25+00:00

FQCW266-10-C

  • Leistung: 10 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-19T12:56:15+00:00

FQCW266-10

  • Leistung: 10 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-19T16:39:00+00:00

FQCW266-25-C

  • Leistung: 25 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-19T13:18:36+00:00

FQCW266-25

  • Leistung: 25 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-19T13:19:12+00:00

FQCW266-50

  • Leistung: 50 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-20T10:22:06+00:00

FQCW266-100

  • Leistung: 100 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-19T13:20:22+00:00

FQCW266-200

  • Leistung: 200 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-19T12:58:42+00:00

FQCW266-500

  • Leistung: 500 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-24T14:45:13+00:00

FQCW266-1000

  • Leistung: 1000 mW
  • Linienbreite: < 300 kHz
  • Kohärenzlänge: > 1000 m
  • Strahlqualität M2: < 1.3
  • Grundmode: TEM00
2023-01-19T14:12:33+00:00

FTSS355-Q1

  • Pulsenergie: 1 µJ
  • Wellenlänge: 355 nm
  • Ø-Leistung: 5 mW
  • Max. Pulsfrequenz: 20000 Hz
  • Peakleistung: 1 kW
2023-01-19T14:13:12+00:00

FTSS355-Q2

  • Pulsenergie: 3 µJ
  • Wellenlänge: 355 nm
  • Ø-Leistung: 30 mW
  • Max. Pulsfrequenz: 10000 Hz
  • Peakleistung: 3 kW
2023-01-19T14:14:00+00:00

FTSS355-Q3

  • Pulsenergie: 15 µJ
  • Wellenlänge: 355 nm
  • Ø-Leistung: 15 mW
  • Max. Pulsfrequenz: 2500 Hz
  • Peakleistung: 14 kW
2023-01-19T14:14:32+00:00

FTSS355-Q4

  • Pulsenergie: 39 µJ
  • Wellenlänge: 355 nm
  • Ø-Leistung: 42 mW
  • Max. Pulsfrequenz: 1000 Hz
  • Peakleistung: 38 kW
2023-01-19T13:26:04+00:00

FTSS355-50

  • Pulsenergie: 70 µJ
  • Wellenlänge: 355 nm
  • Ø-Leistung: 7 mW
  • Max. Pulsfrequenz:100 Hz
  • Peakleistung: 54 kW
2023-01-19T13:29:55+00:00

FTSS355-300

  • Pulsenergie: 300 µJ
  • Wellenlänge: 355 nm
  • Ø-Leistung: 6 mW
  • Max. Pulsfrequenz: 80 Hz
  • Peakleistung: 174 kW